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昆山瑞塞奇精密儀器有限公司


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超高分辨率場發射掃描電子顯微鏡 SU9000

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更新時間:2024-05-06 09:31:13瀏覽次數:157次

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產品簡介

專門為電子束敏感樣品和需300萬倍穩定觀察的半導體器件,高分辨成像所設計。特點新的電子槍和電子光學設計提高了低加速電壓性能。0.4 nm / 30 kV (SE) 1.2 nm / 1 kV (SE) …

詳細介紹

 

超高分辨率場發射掃描電子顯微鏡 SU9000

 專門為電子束敏感樣品和需300萬倍穩定觀察的半導體器件,高分辨成像所設計。

特點

 
  • 新的電子槍和電子光學設計提高了低加速電壓性能。
    0.4 nm / 30 kV (SE)
    1.2 nm / 1 kV (SE)
    0.34 nm / 30 kV (STEM)
  • 用改良的高真空性能和電子束穩定性來實現高效率截面觀察。
  • 采用全新設計的Super E x B能量過濾技術,高效,靈活地收集SE / BSE/ STEM信號。 

項目技術指標
二次電子分辨率0.4nm (加速電壓30kV,放大倍率80萬倍)
1.2nm (加速電壓1kV,放大倍率25萬倍)
STEM分辨率0.34nm(加速電壓30kV,晶格象)
觀測倍率底片輸出顯示器輸出
LM模式80~10,000x220~25,000x
HM模式800~3,000,000x2,200~8,000,000x
樣品臺側插式樣品桿
樣品移動行程X±4.0mm
Y±2.0mm
Z±0.3mm
T±40度
標準樣品臺平面樣品臺:5.0mm×9.5mm×3.5mmH
截面樣品臺:2.0mm×6.0mm×5.0mmH
專用樣品臺截面樣品臺:2.0mm×12.0mm×6.0mmH
雙傾截面樣品臺:0.8mm×8.5mm×3.5mmH
信號檢測器二次電子探測器
TOP 探測器(選配)
BF/DF 雙STEM探測器(選配)

應用領域:

1.      半導體器件

2.      高分子材料

3.      納米材料

4.      生命科學
超高分辨率場發射掃描電子顯微鏡 SU9000超高分辨率場發射掃描電子顯微鏡 SU9000
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