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納米壓印芯片光刻機(jī)
納米壓印芯片光刻機(jī)，由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)先進(jìn)，找平力小、使本機(jī)不僅適合單晶硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光，而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片...

型號(hào)： HL-GKJ 所在地：濟(jì)南市參考價(jià)： ￥42000更新時(shí)間：2023/1/10 15:39:56 對(duì)比

光刻機(jī)壓印光刻機(jī)試驗(yàn)裝置實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)試驗(yàn)機(jī)
微納米芯片光刻系統(tǒng)
微納米芯片光刻系統(tǒng)，本機(jī)統(tǒng)針對(duì)各大專院校、企業(yè)及科研單位，對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度光刻系統(tǒng)。

型號(hào)： HL-GKXT 所在地：濟(jì)南市參考價(jià)： ￥40000更新時(shí)間：2023/1/10 15:00:46 對(duì)比

光刻機(jī)光刻系統(tǒng)模擬實(shí)驗(yàn)實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)試驗(yàn)機(jī)
紫外納米芯片光刻系統(tǒng)
紫外納米芯片光刻系統(tǒng)，主要用途，本機(jī)針對(duì)各大專院校、企業(yè)及科研單位，對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度光刻機(jī)。

型號(hào)： HL-GKJ 所在地：濟(jì)南市參考價(jià)： ￥50000更新時(shí)間：2023/1/7 16:11:47 對(duì)比

光刻機(jī)光學(xué)試驗(yàn)光刻試驗(yàn)實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)試驗(yàn)機(jī)
納米芯片壓刻機(jī)
納米芯片壓刻機(jī)，本機(jī)統(tǒng)針對(duì)各大專院校、企業(yè)及科研單位，對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度光刻系統(tǒng)。

型號(hào)： HL-YKJ 所在地：濟(jì)南市參考價(jià)： ￥40000更新時(shí)間：2023/1/7 15:29:43 對(duì)比

壓刻機(jī)試驗(yàn)機(jī)模擬實(shí)驗(yàn)實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)試驗(yàn)裝置
納米壓印光刻機(jī)
納米壓印光刻機(jī)，本機(jī)統(tǒng)針對(duì)各大專院校、企業(yè)及科研單位，對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度光刻系統(tǒng)。

型號(hào)： HL-GKJ 所在地：濟(jì)南市參考價(jià)： ￥40000更新時(shí)間：2023/1/4 16:18:43 對(duì)比

壓刻機(jī)系統(tǒng)試驗(yàn)系統(tǒng)試驗(yàn)裝置實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)試驗(yàn)機(jī)
單面光刻機(jī)系統(tǒng)
單面光刻機(jī)系統(tǒng)，本機(jī)針對(duì)各大專院校、企業(yè)及科研單位，對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度光刻機(jī)。

型號(hào)： HL-GKJXT 所在地：濟(jì)南市參考價(jià)： ￥43000更新時(shí)間：2023/1/4 15:18:38 對(duì)比

芯片壓印機(jī)試驗(yàn)系統(tǒng)試驗(yàn)裝置光刻機(jī)試驗(yàn)機(jī)